双靶磁控溅射仪
型号:
VTC-600-2HD
LD网址(中国)有限公司:
VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
主要参数

输入电源:220V AC 50/60Hz   功率:<2KW(包含真空泵)

 

溅射电源:安装有两个溅射电源:

直流(DC)电源:500W,针对于制作金属膜

射频(RF)电源:300W,可制作氧化物和金属膜

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主要特点

体积小,操作简便

 

真空腔室、真空泵组整机模块化设计,控制电源为分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。

 

可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪,购买前请联系我公司销售。

磁控溅射头

仪器中安装有2个2英寸磁控溅射头,而且都带有水冷夹层(图一)

 

一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材

 

另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材

 

靶材尺寸要求:直径为50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

 

可以单独订购RF连接线作为备用(图二)

 

设备包含一台水冷机,用于靶头冷却(图三)

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       图一

        图二

           图三



载样台

载样台尺寸:φ140mm(最大可放置4"的基底)

 

载样台可以旋转,其速度为:1 - 20 rpm (可调)

 

载样台最高可加热温度为500℃

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真空腔体

真空腔体:φ300 mm  x 300 mm H,采用不锈钢制作

 

观察窗口:φ100 mm

 

腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易

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气体流量控制器

仪器内部安装有2个质量流量计,量程为:0-100sccm

 

气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作

 

此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含)

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真空系统

配有一套GZK-103D分子泵系统(德国制作)

 

标准5E-5mbar 极限7.4E-6mbar(仅供参考,详情请点击)

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薄膜测厚

一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å  

 

LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据

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产品外型尺寸

L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

 

净重:160 kg

质保

一年保修,终身技术支持。


特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。

2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。

 

点击查看售后服务承诺书。


使用提示

此设备为DIY设备,参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通

 

为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N)

 

在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净

 

要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面

 

超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。

 

等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。

 

制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。

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   超声波清洗机

    等离子清洗机

   蒸镀仪

   手套箱


警示

注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体

 

气瓶上应安装减压阀(设备标配不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用

 

溅射头连接到高电压。为了安全,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶

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